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科研成果 |
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研究室 |
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重点实验室 |
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催化反应器壁的含铜陶瓷涂层方法
| 专利名称: |
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| 英文名称: |
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| 专利类别: |
发明专利
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| 申请号: |
98125746.1
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| 申请日期: |
1998-12-16
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| 授权日期: |
2002-8-21
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| 专利号: |
ZL98125746.1
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| 第一发明人: |
高林
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| 其它发明人: |
王国平;赵伟忠
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| 国外申请日期: |
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| 国外申请方式: |
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| 专利授权日期: |
2002-8-21
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| 缴费情况: |
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| 实施情况: |
本单位实施
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| 专利证书号: |
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| 专利摘要: |
本发明涉及一种用于催化反应器壁的含铜陶瓷涂层方法，该方法是采用基体准备、釉浆制作、涂釉、干燥、烧成等步骤完成；其中釉浆制作中的各组份为基体剂、助溶剂、密着剂、乳浊剂、氧化剂、多元密着氧化物。通过对该方法的实践已取得良好的效果，并且具有瓷层可耐６５０℃以下的
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| 其它备注: |
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